运营商财经 康钊/文
近日，工信部印发了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》，其中显示中国已攻克氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm，这让网友欢呼雀跃，因为这是中国光刻机技术领域里程碑式的重大突破。
这是中国首个自主知识产权的新型光刻机，其中的套刻是光刻机的一个指标，是多重曝光的意思。氟化氩光刻机是DUV光刻机，比老式的248nm光源的KrF光刻机更先进。中国研发成功了氟化氩光刻机，最起码意味着光刻机能够在晶圆上实现非常高的图案对准精度。这对于生产先进的芯片非常重要，因为芯片的制造需要在晶圆上进行多次曝光和刻蚀，每次曝光都需要精确对准前一次曝光的图案。如果套刻精度不够高，就会导致芯片上的图案出现偏差，从而影响芯片的性能和良率。
中国此次宣布研发成功的氟化氩光刻机虽然还比不上全球最大的光刻机巨头阿斯麦公司的光刻机，但起码比以前有很大进步。在此之前，中国最先 进的光刻机是上海微电子研发成功的90纳米光刻机，而此次光刻机分辨率为≤65nm，套刻精度≤8nm，这并非说就是8纳米光刻机，而是65纳米光刻机，因为要制造什么工艺的芯片，其中的光刻机主要是看分辨率，而不是看套刻精度。
中国此次宣布研发成功氟化氩光刻机的时机非常好，此前9月6日，荷兰宣布，扩大光刻机出口管制范围至浸没式深紫外光刻设备，其中甚至包括2007年就已推出的一款老掉牙的光刻机，之所以对中国封杀这么老的光刻机，就是欺负中国连这样破旧的光刻机都造不出来。此次中国宣布研发成功65纳米的氟化氩光刻机，表明中国不稀罕荷兰的老旧光刻机，无论美国、荷兰是否封杀，中国反正也不想买这样的光刻机了，也不需要买了，还是自己生产为好。
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